半導体製造工程では、現在非常に強いプラズマを使用したエッチング、CVDスパッタの装置がみうけられます。カルレッツ®パーフロロエラストマーパーツは非常に幅広い耐ガス、耐プラズマ特性を持ち合わせてプラズマ及びガス成膜プロセスに優れた性能を発揮します。
これらのカルレッツ®の性能は、多種のポリマーと架橋構造の組み合わせによりつくられます。 また最近のプラズマ耐性の要望として物理的耐性と化学的耐性による違いを明確にして欲しいという内容があります。これは、装置の場所による耐性の変化によるものです。
物理的プラズマ耐性は、下記のチャートのとおり、FKMやシリコーンゴムでも十分対応できるケースがありますが、化学的プラズマ耐性ではパーフロロエラストマーとの性能の差は明らかです。
