最近の半導体プロセスの洗浄工程では、スチームを使用することが増えています。 このような環境下でもカルレッツ6375UPは、優れた性能を発揮します。 下表は非常に過酷なスチームの条件での圧縮永久歪と体積変化のデータです。
